线上百家乐

  • <tr id='3E51mw'><strong id='3E51mw'></strong><small id='3E51mw'></small><button id='3E51mw'></button><li id='3E51mw'><noscript id='3E51mw'><big id='3E51mw'></big><dt id='3E51mw'></dt></noscript></li></tr><ol id='3E51mw'><option id='3E51mw'><table id='3E51mw'><blockquote id='3E51mw'><tbody id='3E51mw'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='3E51mw'></u><kbd id='3E51mw'><kbd id='3E51mw'></kbd></kbd>

    <code id='3E51mw'><strong id='3E51mw'></strong></code>

    <fieldset id='3E51mw'></fieldset>
          <span id='3E51mw'></span>

              <ins id='3E51mw'></ins>
              <acronym id='3E51mw'><em id='3E51mw'></em><td id='3E51mw'><div id='3E51mw'></div></td></acronym><address id='3E51mw'><big id='3E51mw'><big id='3E51mw'></big><legend id='3E51mw'></legend></big></address>

              <i id='3E51mw'><div id='3E51mw'><ins id='3E51mw'></ins></div></i>
              <i id='3E51mw'></i>
            1. <dl id='3E51mw'></dl>
              1. <blockquote id='3E51mw'><q id='3E51mw'><noscript id='3E51mw'></noscript><dt id='3E51mw'></dt></q></blockquote><noframes id='3E51mw'><i id='3E51mw'></i>
                相关文章
                  暂时没有信◎息
                产品展示
                当前位置:首页 > 全部产品 > HMDS真空烤箱 >
                • EHMDSHMDS真空烤箱

                  在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺◣显得更为重要。光刻╳涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条⊙、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿◣法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲↘基二硅氮烷)可以很好地改▃善这

                  查看详ξ细介绍
                共 1 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页